Skip to main content Skip to footer
HomeHome
 
  • Accueil
  • Recherche de brevets

    Connaissances des brevets

    Accéder à nos bases de données brevets et à nos outils de recherche.

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • Informations techniques
      • Vue d'ensemble
      • Espacenet - recherche de brevets
      • Serveur de publication européen
      • Recherche EP en texte intégral
    • Informations juridiques
      • Vue d'ensemble
      • Registre européen des brevets
      • Bulletin européen des brevets
      • Plan du site de l'Identifiant européen de la jurisprudence
      • Observations de tiers
    • Informations commerciales
      • Vue d'ensemble
      • PATSTAT
      • IPscore
      • Rapports d’analyse sur les technologies
    • Données
      • Vue d'ensemble
      • Technology Intelligence Platform
      • Données liées ouvertes EP
      • Jeux de données de masse
      • Services Internet
      • Couverture, codes et statistiques
    • Plateformes technologiques
      • Vue d'ensemble
      • Le plastique en pleine mutation
      • Innovation autour de l'eau
      • Innovation spatiale
      • Des technologies pour lutter contre le cancer
      • Technologies de lutte contre les incendies
      • Technologies énergétiques propres
      • Lutte contre le coronavirus
    • Ressources utiles
      • Vue d'ensemble
      • Il s'agit de votre première visite ? Qu'est-ce que l'information brevets ?
      • Information brevets de l'Asie
      • Centres d'information brevets (PATLIB)
      • Patent Translate
      • Patent Knowledge News
      • Commerce et statistiques
      • Informations relatives au brevet unitaire pour la connaissance des brevets
    Image
    Plastics in Transition

    Rapport d’analyse sur les technologies de gestion des déchets plastiques

  • Demander un brevet

    Demander un brevet

    Informations pratiques concernant les procédures de dépôt et de délivrance.

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • Voie européenne
      • Vue d'ensemble
      • Guide du brevet européen
      • Oppositions
      • Procédure orale
      • Recours
      • Brevet unitaire et juridiction unifiée du brevet
      • Validation nationale
      • Requête en extension/validation
    • Voie internationale (PCT)
      • Vue d'ensemble
      • Guide euro-PCT : procédure PCT devant l'OEB
      • Décisions et communiqués
      • Dispositions et ressources PCT
      • Requête en extension/validation
      • Programme de partenariat renforcé
      • Traitement accéléré des demandes PCT
      • Patent Prosecution Highway (PPH)
      • Formations et manifestations
    • Demandes nationales
    • Trouver un mandataire agréé
    • Services MyEPO
      • Vue d'ensemble
      • Comprendre nos services
      • Accéder aux services
      • Effectuer un dépôt
      • Intervenir sur un dossier
      • Disponibilité de services en ligne
    • Formulaires
      • Vue d'ensemble
      • Requête en examen
    • Taxes
      • Vue d'ensemble
      • Taxes européennes (CBE)
      • Taxes internationales (PCT)
      • Taxes du brevet unitaire
      • Paiements des taxes et remboursements
      • Avertissement

    up

    Découvrez comment le brevet unitaire peut améliorer votre stratégie de PI

  • Informations juridiques

    Informations juridiques

    Droit européen des brevets, Journal officiel et autres textes juridiques.

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • Textes juridiques
      • Vue d'ensemble
      • Convention sur le brevet européen
      • Journal officiel
      • Directives
      • Système d'extension/de validation
      • Accord de Londres
      • Droit national relatif à la CBE
      • Unitary patent system
      • Mesures nationales relatives au brevet unitaire
    • Pratiques juridictionnelles
      • Vue d'ensemble
      • Colloque des juges européens de brevets
    • Consultations d'utilisateurs
      • Vue d'ensemble
      • Consultations en cours
      • Consultations fermées
    • Harmonisation matérielle du droit des brevets
      • Vue d'ensemble
      • The Tegernsee process
      • Groupe B+
    • Convergence des pratiques
    • Options pour les mandataires agréés
    Image
    Law and practice scales 720x237

    Restez à jour des aspects clés de décisions choisies grâce à notre publication mensuelle "Abstracts of decisions”

  • Actualités et événements

    Actualités et événements

    Nos dernières actualités, podcasts et événements.

    Consulter la vue d'ensemble 

     

    • Vue d'ensemble
    • Actualités
    • Événements
    • Prix de l'inventeur européen
      • Vue d'ensemble
      • Ce que signifie demain
      • À propos du prix
      • Catégories et prix
      • Rencontrez les finalistes
      • Proposer un inventeur
      • European Inventor Network
      • La cérémonie 2024
    • Young Inventor Prize
      • Vue d'ensemble
      • À propos du prix
      • Appel à candidatures
      • Le jury
      • Le monde, réinventé
    • Centre de presse
      • Vue d'ensemble
      • Patent Index et statistiques
      • Recherche dans le centre de presse
      • Rappel des faits
      • Droits d'auteur
      • Contact presse
      • Demande de rappel
      • Service d'alerte par courriel
    • Coup de projecteur sur l'innovation et la protection par brevets
      • Vue d'ensemble
      • Water-related technologies
      • CodeFest
      • Green tech in focus
      • Research institutes
      • Women inventors
      • Brevets et société
      • Technologies spatiales et satellitaires
      • L'avenir de la médecine
      • Science des matériaux
      • Communications mobiles
      • Brevets dans le domaine des biotechnologies
      • Patent classification
      • Technologies numériques
      • La fabrication de demain
      • Books by EPO experts
    • Podcast "Talk innovation"

    podcast

    De l’idée à l’invention : notre podcast vous présente les actualités en matière de technologies et de PI

  • Formation

    Formation

    L'Académie européenne des brevets – point d'accès pour vos formations

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • Activités de formation et parcours d'apprentissage
      • Vue d'ensemble
      • Activités de formation
      • Parcours d’apprentissage
    • EEQ et CEAB
      • Vue d'ensemble
      • EEQ – Examen européen de qualification
      • CEAB – Certificat européen d’administration des brevets
      • CSP – Programme de soutien aux candidats
    • Ressources par centre d'intérêt
      • Vue d'ensemble
      • Délivrance des brevets
      • Transfert et diffusion de technologies
      • Application des droits de brevet et contentieux en matière de brevets
    • Ressources de formation par profil
      • Vue d'ensemble
      • Entreprise et responsables PI
      • Candidats à l'EEQ et CEAB
      • Juges, juristes et parquets
      • Bureaux nationaux et autorités de PI
      • Conseils en brevets et assistants juridiques
      • Universités, centres de recherche et centre de transfert de technologie
    Image
    Patent Academy catalogue

    Un vaste éventail d’opportunités de formation dans le catalogue de l’Académie européenne des brevets

  • Découvrez-nous

    Découvrez-nous

    En savoir plus sur notre travail, nos valeurs, notre histoire et notre vision.

    Consulter la vue d'ensemble 

    • Vue d'ensemble
    • L'OEB en bref
    • Les 50 ans de la Convention sur le brevet européen
      • Vue d'ensemble
      • Official celebrations
      • Member states’ video statements
      • 50 Leading Tech Voices
      • Athens Marathon
      • Concours d’art collaboratif pour enfants
    • Fondements juridiques et États membres
      • Vue d'ensemble
      • Fondements juridiques
      • États membres de l'Organisation européenne des brevets
      • Etats autorisant l’extension
      • Etats autorisant la validation
    • Conseil d'administration et organes auxiliaires
      • Vue d'ensemble
      • Communiqués
      • Calendrier
      • Documentation
      • Le Conseil d'administration de l'Organisation européenne des brevets
    • Principes et stratégie
      • Vue d'ensemble
      • Mission, vision et valeurs
      • Plan stratégique 2028
      • Vers une nouvelle normalité
    • Présidence et Comité de direction
      • Vue d'ensemble
      • Président António Campinos
      • Comité consultatif de direction
    • Sustainability at the EPO
      • Vue d'ensemble
      • Environmental
      • Social
      • Governance and Financial sustainability
    • Services et activités
      • Vue d'ensemble
      • Nos services et notre structure
      • Qualité
      • Consultation de nos utilisateurs
      • Coopération européenne et internationale
      • Académie européenne des brevets
      • Économiste en chef
      • Bureau de médiation
      • Signaler des actes répréhensibles
    • Observatoire des brevets et des technologies
      • Vue d'ensemble
      • Acteurs de l'innovation
      • Politique et financement
      • Outils
      • À propos de l'Observatoire
    • Achats
      • Vue d'ensemble
      • Plan d’achats prévisionnel
      • La passation de marchés avec l'OEB
      • Procédures d'achat
      • Politique d'achat durable
      • Comment s‘enregistrer pour appels à la concurrence électroniques et signatures électroniques
      • Portail des achats
      • Facturation
      • Conditions générales
      • Appels à la concurrence archivés
    • Portail de transparence
      • Vue d'ensemble
      • Généralités
      • Capital humain
      • Capital environnemental
      • Capital organisationnel
      • Capital social et relationnel
      • Capital économique
      • Gouvernance
    • Statistics and trends
      • Vue d'ensemble
      • Statistics & Trends Centre
      • Patent Index 2024
      • EPO Data Hub
      • Clarification on data sources
    • Historique de l'OEB
      • Vue d'ensemble
      • Années 1970
      • Années 1980
      • Années 1990
      • Années 2000
      • Années 2010
      • Années 2020
    • La collection d'art de l'OEB
      • Vue d'ensemble
      • La collection
      • Let's talk about art
      • Artistes
      • Médiathèque
      • What's on
      • Publications
      • Contact
      • Espace Culture A&T 5-10
      • "Longue nuit"
    Image
    Patent Index 2024 keyvisual showing brightly lit up data chip, tinted in purple, bright blue

    Suivez les dernières tendances technologiques grâce à notre Patent Index

 
Website
cancel
en de fr
  • Language selection
  • English
  • Deutsch
  • Français
Main navigation
  • Homepage
    • Go back
    • Êtes-vous novice en matière de brevets ?
  • Êtes-vous novice en matière de brevets ?
    • Go back
    • Votre entreprise et les brevets
    • Pourquoi les brevets existent-ils ?
    • Quelle est votre grande idée ?
    • Êtes-vous prêts ?
    • Ce qui vous attend
    • Comment déposer une demande de brevet
    • Mon idée est-elle brevetable?
    • Êtes-vous le premier ?
    • Quiz sur les brevets
    • Vidéo sur le brevet unitaire
  • Recherche de brevets
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Informations techniques
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Espacenet - recherche de brevets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Bases de données des offices nationaux et régionaux
        • Global Patent Index (GPI)
        • Notes de version
      • Serveur de publication européen
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Notes de version
        • Tableau de correspondance pour les demandes Euro-PCT
        • Fichier d’autorité EP
        • Aide
      • Recherche EP en texte intégral
    • Informations juridiques
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Registre européen des brevets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Notes de version archive
        • Documentation sur le Registre
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Couverture de données pour lien profonds
          • Registre fédéré
          • Événements du Registre
      • Bulletin européen des brevets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Télécharger les fichiers du Bulletin
        • Recherche dans le Bulletin EP
        • Help
      • Plan du site de l'Identifiant européen de la jurisprudence
      • Observations de tiers
    • Informations commerciales
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • PATSTAT
      • IPscore
        • Go back
        • Notes de version
      • Rapports d’analyse sur les technologies
    • Données
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Technology Intelligence Platform
      • Données liées ouvertes EP
      • Jeux de données de masse
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Manuals
        • Listages de séquences
        • Données nationales en texte intégral
        • Données du Registre européen des brevets
        • Données bibliographiques mondiale de l'OEB (DOCDB)
        • Données EP en texte intégral
        • Données mondiales de l'OEB relatives aux événements juridiques (INPADOC)
        • Données bibliographiques EP (EBD)
        • Décisions des chambres de recours de l'OEB
      • Services Internet
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Services brevets ouverts (OPS)
        • Serveur de publication européen (service web)
      • Couverture, codes et statistiques
        • Go back
        • Mises à jour hebdomadaires
        • Mises à jour régulières
    • Plateformes technologiques
      • Go back
      • Le plastique en pleine mutation
        • Go back
        • Overview
        • Récupération des déchets plastiques
        • Recyclage des déchets plastiques
        • Matières plastiques de substitution
      • Vue d'ensemble
      • L'innovation dans les technologies de l'eau
        • Go back
        • Overview
        • Eau salubre
        • Protection contre l'eau
      • Innovation spatiale
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Astronautique
        • Observation spatiale
      • Des technologies pour lutter contre le cancer
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Prévention et détection précoce
        • Diagnostics
        • Thérapies
        • Bien-être et suivi
      • Technologies de lutte contre les incendies
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Détection et prévention des incendies
        • Extinction des incendies
        • Matériel de protection
        • Technologies de restauration après incendie
      • Technologies énergétiques propres
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Énergies renouvelables
        • Industries à fortes émissions de carbone
        • Stockage de l’énergie et autres technologies complémentaires
      • Lutte contre le coronavirus
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Vaccins et thérapies
          • Go back
          • Overview
          • Vaccins
          • Aperçu des traitements candidats contre la Covid-19
          • Antiviral et traitement symptomatique candidats
          • Acides nucléiques et anticorps de lutte contre le coronavirus
        • Diagnostics et analyses
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Diagnostics - essais basés sur une protéine ou un acide nucléique
          • Protocoles analytiques
        • Informatique
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Bioinformatique
          • Informatique médicale
        • Les technologies de la nouvelle normalité
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Appareils, matériel et équipements
          • Procédures, actions et activités
          • Technologies numériques
        • Les inventeurs en lutte contre le coronavirus
    • Ressources utiles
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Il s'agit de votre première visite ? Qu'est-ce que l'information brevets ?
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Définitions de base
        • Classification des brevets
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Classification coopérative des brevets (CPC)
        • Familles de brevets
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Famille de brevets simple DOCDB
          • Famille de brevets élargie INPADOC
        • À propos des événements juridiques
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Système de classification INPADOC
      • Information brevets de l'Asie
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • China (CN)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Grant procedure
          • Numbering system
          • Useful terms
          • Searching in databases
        • Taipei Chinois (TW)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Grant procedure
          • Numbering system
          • Useful terms
          • Searching in databases
        • Inde (IN)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Grant procedure
          • Numbering system
        • Japon (JP)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Grant procedure
          • Numbering system
          • Useful terms
          • Searching in databases
        • Corée (KR)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Grant procedure
          • Numbering system
          • Useful terms
          • Searching in databases
        • Fédération de Russie (RU)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Facts and figures
          • Numbering system
          • Searching in databases
        • Useful links
      • Centres d'information brevets (PATLIB)
      • Patent Translate
      • Patent Knowledge News
      • Commerce et statistiques
      • Informations relatives au brevet unitaire pour la connaissance des brevets
  • Demander un brevet
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Voie européenne
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Guide du brevet européen
      • Oppositions
      • Procédure orale
        • Go back
        • Calendrier des procédures orales
          • Go back
          • Accès du public à la procédure de recours
          • Accès du public à la procédure d’opposition
          • Calendrier des procédures orales
          • Directives techniques
      • Recours
      • Brevet unitaire et juridiction unifiée du brevet
        • Go back
        • Brevet unitaire
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Cadre juridique
          • Principales caractéristiques
          • Comment obtenir un brevet unitaire
          • Coût d'un brevet unitaire
          • Traduction et compensation
          • Date de début
          • Introductory brochures
        • Vue d'ensemble
        • Juridiction unifiée du brevet
      • National validation
      • Requête en extension/validation
    • Demandes internationales
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Guide euro-PCT
      • Entrée dans la phase européenne
      • Décisions et communiqués
      • Dispositions et ressources PCT
      • Requête en extension/validation
      • Programme de partenariat renforcé
      • Traitement accéléré des demandes PCT
      • Patent Prosecution Highway (PPH)
        • Go back
        • Programme Patent Prosecution Highway (PPH) – Présentation
      • Formations et manifestations
    • Voie nationale
    • Services MyEPO
      • Go back
      • Overview
      • Comprendre nos services
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Exchange data with us using an API
          • Go back
          • Notes de version
      • Accéder aux services
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Notes de version
      • Effectuer un dépôt
        • Go back
        • Effectuer un dépôt
        • Que faire si nos services de dépôt en ligne sont indisponibles ?
        • Notes de version
      • Intervenir sur un dossier
        • Go back
        • Notes de version
      • Disponibilité de services en ligne
    • Taxes
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Taxes européennes (CBE)
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Décisions et communiqués
      • Taxes internationales (PCT)
        • Go back
        • Réduction des taxes
        • Taxes pour les demandes internationales
        • Décisions et communiqués
        • Vue d'ensemble
      • Taxes du brevet unitaire
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Décisions et avis
      • Paiements des taxes et remboursements
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Modes de paiement
        • Premiers pas
        • FAQs et autre documentation
        • Informations techniques concernant les paiements groupés
        • Décisions et communiqués
        • Notes de version
      • Avertissement
    • Formulaires
      • Go back
      • Requête en examen
      • Vue d'ensemble
    • Trouver un mandataire agréé
  • Informations juridiques
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Textes juridiques
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Convention sur le brevet européen
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Archive
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Documentation sur la révision de la CBE en 2000
            • Go back
            • Vue d'ensemble
            • Conférence diplomatique pour la révision de la CBE
            • Travaux préparatoires
            • Nouveau texte
            • Dispositions transitoires
            • Règlement d'exécution de la CBE 2000
            • Règlement relatif aux taxes
            • Ratifications et adhésions
          • Travaux Préparatoires CBE 1973
      • Journal officiel
      • Directives
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Directives CBE
        • Directives PCT de l'OEB
        • Directives relatives au brevet unitaire
        • Cycle de révision des directives
        • Consultation results
        • Résumé des contributions des utilisateurs
        • Archive
      • Système d'extension/de validation
      • Accord de Londres
      • Droit national relatif à la CBE
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Archive
      • Système du brevet unitaire
        • Go back
        • Travaux préparatoires to UP and UPC
      • Mesures nationales relatives au brevet unitaire
    • Pratiques juridictionnelles
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Colloque des juges européens de brevets
    • Consultations d'utilisateurs
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Consultations en cours
      • Consultations fermées
    • Harmonisation matérielle du droit des brevets
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • The Tegernsee process
      • Groupe B+
    • Convergence des pratiques
    • Options pour les mandataires agréés
  • Actualités et événements
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Actualités
    • Événements
    • Prix de l'inventeur européen
      • Go back
      • The meaning of tomorrow
      • Vue d'ensemble
      • À propos du prix
      • Catégories et prix
      • Découvrir les inventeurs
      • Proposer un inventeur
      • European Inventor Network
        • Go back
        • 2024 activities
        • 2025 activities
        • Rules and criteria
        • FAQ
      • La cérémonie 2024
    • Young Inventors Prize
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • À propos du prix
      • Appel à candidatures
      • Le jury
      • The world, reimagined
      • La cérémonie 2025
    • Centre de presse
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Patent Index et statistiques
      • Recherche dans le centre de presse
      • Rappel des faits
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • L'Office européen des brevets
        • Questions/réponses sur les brevets en lien avec le coronavirus
        • Questions/réponses sur les brevets portant sur des végétaux
      • Droits d'auteur
      • Contact presse
      • Formulaire - Demande de rappel
      • Service d'alerte par courriel
    • Coup de projecteur
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Technologies liées à l'eau
      • CodeFest
        • Go back
        • CodeFest Spring 2025 on classifying patent data for sustainable development
        • Vue d'ensemble
        • CodeFest 2024 sur l'IA générative
        • CodeFest 2023 sur les plastiques verts
      • Green tech in focus
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • About green tech
        • Renewable energies
        • Energy transition technologies
        • Building a greener future
      • Research institutes
      • Women inventors
      • Brevets et société
      • Technologies spatiales et satellitaires
        • Go back
        • Brevets et technologies spatiales
        • Vue d'ensemble
      • L'avenir de la médecine
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Technologies médicales et cancer
        • Personalised medicine
      • Science des matériaux
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Nanotechnologie
      • Communications mobiles
      • Biotechnologie
        • Go back
        • Biotechnologies rouges, blanches ou vertes
        • Vue d'ensemble
        • Rôle de l’OEB
        • Inventions brevetables
        • Les inventeurs dans le domaine des biotechnologies
      • Classification
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Nanotechnology
        • Climate change mitigation technologies
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • External partners
          • Updates on Y02 and Y04S
      • Technologies numériques
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • A propos des TIC
        • Matériel et logiciel
        • Intelligence artificielle
        • Quatrième révolution industrielle
      • Fabrication additive
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • À propos de la FA
        • Innover avec la FA
      • Books by EPO experts
    • Podcast
  • Formation
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Activités de formation et parcours d'apprentissage
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Activités de formation : types et formats
      • Parcours d’apprentissage
    • EEQ et CEAB
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • EEQ – Examen européen de qualification
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Compendium
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Épreuve F
          • Épreuve A
          • Épreuve B
          • Épreuve C
          • Épreuve D
          • Examen préliminaire
        • Candidats reçus
        • Archives
      • CEAB – Certificat européen d’administration des brevets
      • CSP – Programme de soutien aux candidats
    • Ressources de formation par centre d'intérêt
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Délivrance des brevets
      • Transfert et diffusion de technologies
      • Application des droits de brevet et contentieux en matière de brevets
    • Ressources de formation par profil
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Enterprises et responsables IP
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Innovation case studies
          • Go back
          • Overview
          • SME case studies
          • Technology transfer case studies
          • Études de cas : technologies à forte croissance
        • Inventor's handbook
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Introduction
          • Disclosure and confidentiality
          • Novelty and prior art
          • Competition and market potential
          • Assessing the risk ahead
          • Proving the invention
          • Protecting your idea
          • Building a team and seeking funding
          • Business planning
          • Finding and approaching companies
          • Dealing with companies
        • Best of search matters
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Tools and databases
          • EPO procedures and initiatives
          • Search strategies
          • Challenges and specific topics
        • Support for high-growth technology businesses
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Business decision-makers
          • IP professionals
          • Stakeholders of the Innovation Ecosystem
      • Candidats à l'EEQ et CEAB
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Casse-têtes sur l'épreuve F
        • Questions D quotidiennes
        • Examen européen de qualification - Guide de préparation
        • CEAB
      • Juges, juristes et parquets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Compulsory licensing in Europe
        • Compétences des juridictions européennes pour les litiges en matière de brevets
      • Offices nationaux et administrations de la PI
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Parcours d'apprentissage pour les examinateurs de brevets des offices nationaux
        • Parcours d'apprentissage pour agents des formalités et assistants juridiques
      • Conseils en brevets et assistants juridiques
      • Universités, centres de recherche et Offices de Transfert Technologique
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Cadre modulaire d'enseignement de la propriété intellectuelle (MIPEF)
        • Programme de stages professionnels "Pan-European Seal"
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Pour les étudiants
          • Pour les universités
            • Go back
            • Vue d'ensemble
            • Ressources éducatives sur la propriété intellectuelle
            • Adhésion universitaire
          • Nos jeunes professionnel(le)s
          • Programme de développement professionnel
        • Programme de recherche académique (ARP)
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Projets de recherche finalisés
          • Projets de recherche en cours
        • Kit d'enseignement sur la PI
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Télécharger des modules
        • Manuel de conception de cours sur la propriété intellectuelle
        • PATLIB Knowledge Transfer to Africa
          • Go back
          • Initiative sur le transfert de connaissances vers l'Afrique (KT2A)
          • Activités fondamentales dans le cadre de l'initiative KT2A
          • Jumelage réussi dans le cadre de l'initiative KT2A : le centre PATLIB de Birmingham et l'université des sciences et technologies du Malawi
  • Découvrez-nous
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • L'OEB en bref
    • Les 50 ans de la CBE
      • Go back
      • Official celebrations
      • Vue d'ensemble
      • Member states’ video statements
        • Go back
        • Albania
        • Austria
        • Belgium
        • Bulgaria
        • Croatia
        • Cyprus
        • Czech Republic
        • Denmark
        • Estonia
        • Finland
        • France
        • Germany
        • Greece
        • Hungary
        • Iceland
        • Ireland
        • Italy
        • Latvia
        • Liechtenstein
        • Lithuania
        • Luxembourg
        • Malta
        • Monaco
        • Montenegro
        • Netherlands
        • North Macedonia
        • Norway
        • Poland
        • Portugal
        • Romania
        • San Marino
        • Serbia
        • Slovakia
        • Slovenia
        • Spain
        • Sweden
        • Switzerland
        • Türkiye
        • United Kingdom
      • 50 Leading Tech Voices
      • Athens Marathon
      • Concours d’art collaboratif pour enfants
    • Fondements juridiques et États membres
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Fondements juridiques
      • Etats membres
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Etats membres selon la date d'adhésion
      • Etats autorisant l’extension
      • Etats autorisant la validation
    • Conseil d'administration et organes auxiliaires
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Communiqués
        • Go back
        • 2024
        • Vue d'ensemble
        • 2023
        • 2022
        • 2021
        • 2020
        • 2019
        • 2018
        • 2017
        • 2016
        • 2015
        • 2014
        • 2013
      • Calendrier
      • Documentation
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Documents du Comité restreint
      • Conseil d'administration
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Composition
        • Représentants
        • Règlement intérieur
        • Collège des commissaires aux comptes
        • Secrétariat
        • Organes
    • Principes et stratégie
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Mission, vision et valeurs
      • Plan stratégique 2028
        • Go back
        • Levier 1 : Les personnes
        • Levier 2 : Les technologies
        • Levier 3 : Des produits et services de grande qualité
        • Levier 4 : Les partenariats
        • Levier 5 : La pérennité financière
      • Vers une nouvelle normalité
      • Protection des données et confidentialité
    • Présidence et Comité de direction
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • A propos du Président
      • Comité consultatif de direction
    • La pérennité à l'OEB
      • Go back
      • Overview
      • Pérennité environnementale
        • Go back
        • Overview
        • Inventions environnementales inspirantes
      • Pérennité sociale
        • Go back
        • Overview
        • Inventions sociales inspirantes
      • Gouvernance et pérennité financière
    • Achats
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Plan d’achats prévisionnel
      • La passation de marchés avec l'OEB
      • Procédures d'achat
      • Publications du système d'acquisition dynamique
      • Politique d'achat durable
      • Sur appels à la concurrence électroniques
      • Facturation
      • Portail des achats
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Signature électronique des contrats
      • Conditions générales
      • Appels à la concurrence archivés
    • Services et activités
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Nos services et notre structure
      • Qualité
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Fondements
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • La Convention sur le brevet européen
          • Directives relatives à l'examen
          • Notre personnel
        • Comment stimuler la qualité
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • État de la technique
          • Système de classification
          • Outils
          • Des procédés gages de qualité
        • Produits et services
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Recherches
          • Examens
          • Oppositions
          • Amélioration continue
        • La qualité grâce au travail en réseau
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Engagement des utilisateurs
          • Coopération
          • Enquêtes visant à évaluer le degré de satisfaction
          • Groupes de parties prenantes sur l'assurance de la qualité
        • Charte sur la qualité des brevets
        • Plan d'action pour la qualité
        • Quality dashboard
        • Statistiques
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Recherche
          • Examen
          • Opposition
        • Gestion intégrée à l'OEB
      • Consultation de nos utilisateurs
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Comité consultatif permanent auprès de l'OEB
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Objectifs
          • Le SACEPO et ses groupes de travail
          • Réunions
          • Espace délégués
        • Enquêtes
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Méthodologie détaillée
          • Services de recherche
          • Services d'examen, actions finales et publication
          • Services d'opposition
          • Services de Formalités
          • Service clientèle
          • Services de dépôt
          • Gestion des grands comptes
          • Site web de l'OEB
          • Archives
      • Notre charte du service clientèle
      • Coopération européenne et internationale
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Coopération avec les Etats membres
          • Go back
          • Vue d'ensemble
        • Coopération bilatérale avec les États non membres
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Le système de validation
          • Programme de partenariat renforcé
        • Organisations internationales, coopération tripartite et IP5
        • Coopération avec les organisations internationales en dehors du système de PI
      • Académie européenne des brevets
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Partenaires
      • Économiste en chef
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Études économiques
      • Bureau de l'Ombud
      • Signaler des actes répréhensibles
    • Observatoire des brevets et des technologies
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Innovation contre le cancer
      • Acteurs de l'innovation
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Start-ups et PME
      • Politique et financement
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Programme de financement de l'innovation
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Nos études sur le financement de l'innovation
          • Initiatives de l'OEB pour les demandeurs de brevet
          • Soutien financier pour les innovateurs en Europe
        • Brevets et normes
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Publications
          • Patent standards explorer
      • Outils
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Deep Tech Finder
      • À propos de l'Observatoire
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Programme de travail
    • Transparency portal
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Généralités
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Annual Review 2023
          • Go back
          • Overview
          • Foreword
          • Executive summary
          • 50 years of the EPC
          • Strategic key performance indicators
          • Goal 1: Engaged and empowered
          • Goal 2: Digital transformation
          • Goal 3: Master quality
          • Goal 4: Partner for positive impact
          • Goal 5: Secure sustainability
        • Annual Review 2022
          • Go back
          • Vue d'ensemble
          • Foreword
          • Executive summary
          • Goal 1: Engaged and empowered
          • Goal 2: Digital transformation
          • Goal 3: Master quality
          • Goal 4: Partner for positive impact
          • Goal 5: Secure sustainability
      • Capital humain
      • Capital environnemental
      • Capital organisationnel
      • Capital social et relationnel
      • Capital économique
      • Gouvernance
    • Statistics and trends
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Statistics & Trends Centre
      • Patent Index 2024
        • Go back
        • Insight into computer technology and AI
        • Insight into clean energy technologies
        • Statistics and indicators
          • Go back
          • European patent applications
            • Go back
            • Key trend
            • Origin
            • Top 10 technical fields
              • Go back
              • Computer technology
              • Electrical machinery, apparatus, energy
              • Digital communication
              • Medical technology
              • Transport
              • Measurement
              • Biotechnology
              • Pharmaceuticals
              • Other special machines
              • Organic fine chemistry
            • All technical fields
          • Applicants
            • Go back
            • Top 50
            • Categories
            • Women inventors
          • Granted patents
            • Go back
            • Key trend
            • Origin
            • Designations
      • Data to download
      • EPO Data Hub
      • Clarification on data sources
    • Historique
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • 1970s
      • 1980s
      • 1990s
      • 2000s
      • 2010s
      • 2020s
    • Collection d'art
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • La collection
      • Let's talk about art
      • Artistes
      • Médiathèque
      • What's on
      • Publications
      • Contact
      • Espace Culture A&T 5-10
        • Go back
        • Catalyst lab & Deep vision
          • Go back
          • Irene Sauter (DE)
          • AVPD (DK)
          • Jan Robert Leegte (NL)
          • Jānis Dzirnieks (LV) #1
          • Jānis Dzirnieks (LV) #2
          • Péter Szalay (HU)
          • Thomas Feuerstein (AT)
          • Tom Burr (US)
          • Wolfgang Tillmans (DE)
          • TerraPort
          • Unfinished Sculpture - Captives #1
          • Deep vision – immersive exhibition
          • Expositions précédentes
        • The European Patent Journey
        • Sustaining life. Art in the climate emergency
        • Next generation statements
        • Open storage
        • Cosmic bar
      • "Longue nuit"
  • Chambres de recours
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Décisions des chambres de recours
      • Go back
      • Décisions récentes
      • Vue d'ensemble
      • Sélection de décisions
    • Communications des chambres de recours
    • Procédure
    • Procédures orales
    • À propos des chambres de recours
      • Go back
      • Vue d’ensemble
      • Président des chambres de recours
      • Grande Chambre de recours
        • Go back
        • Vue d’ensemble
        • Pending referrals (Art. 112 EPC)
        • Decisions sorted by number (Art. 112 EPC)
        • Pending petitions for review (Art. 112a EPC)
        • Decisions on petitions for review (Art. 112a EPC)
      • Chambres de recours techniques
      • Chambre de recours juridique
      • Chambre de recours statuant en matière disciplinaire
      • Praesidium
        • Go back
        • Vue d’ensemble
    • Code de conduite
    • Plan de répartition des affaires
      • Go back
      • Vue d’ensemble
      • Technical boards of appeal by IPC in 2025
      • Archive
    • Liste annuelle des affaires
    • Communications
    • Rapport annuel
      • Go back
      • Vue d’ensemble
    • Publications
      • Go back
      • Résumés des décisions
    • La Jurisprudence des Chambres de recours
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Archive
  • Service et ressources
    • Go back
    • Vue d'ensemble
    • Mises à jour du site Internet
    • Disponibilité de services en ligne
      • Go back
      • Vue d'ensemble
    • FAQ
      • Go back
      • Vue d'ensemble
    • Publications
    • Commande
      • Go back
      • Connaissances des Brevets - Produits et Services
      • Vue d'ensemble
      • Conditions générales
        • Go back
        • Vue d'ensemble
        • Produits d'informations brevets
        • Donnés brutes
        • Services brevets ouverts (OPS)
        • Charte d'utilisation équitable
    • Notifications relatives aux procédures
    • Liens utiles
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Offices des brevets des Etats membres
      • Autres offices des brevets
      • Répertoires de conseils en propriété industrielle
      • Bases de données, registres et gazettes des brevets
      • Disclaimer
    • Centre d'abonnement
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • S'abonner
      • Gérer ses préférences
      • Se désabonner
    • Contactez-nous
      • Go back
      • Vue d'ensemble
      • Options de dépôt
      • Localisations
    • Jours fériés
    • Glossaire
    • Flux RSS
Board of Appeals
Decisions

Recent decisions

Vue d'ensemble
  • 2025 decisions
  • 2024 decisions
  • 2023 decisions
  1. Accueil
  2. Node
  3. T 1782/10 22-11-2013
Facebook X Linkedin Email

T 1782/10 22-11-2013

Identifiant européen de la jurisprudence
ECLI:EP:BA:2013:T178210.20131122
Date de la décision
22 November 2013
Numéro de l'affaire
T 1782/10
Requête en révision de
-
Numéro de la demande
03702402.3
Classe de la CIB
B41M 1/24
Langue de la procédure
DE
Distribution
NICHT VERTEILT (D)

Téléchargement et informations complémentaires:

Décision en DE 412.32 KB
Les documents concernant la procédure de recours sont disponibles dans le Registre européen des brevets
Informations bibliographiques disponibles en:
DE
Versions
Non publié
Titre de la demande

Stahltiefdruckverfahren zum Herstellen eines Sicherheitsdokuments sowie Stahltiefdruckplatte und Zwischenform dafür und Verfahren zu deren Herstellung

Nom du demandeur
Giesecke & Devrient GmbH
Nom de l'opposant
KBA-NotaSys SA
Chambre
3.2.05
Sommaire
-
Dispositions juridiques pertinentes
European Patent Convention Art 113(1) 1973
European Patent Convention Art 84 1973
European Patent Convention Art 56 1973
European Patent Convention Art 54(3)
European Patent Convention R 139
European Patent Convention R 80
Mot-clé

Rückzahlung der Beschwerdegebühr - (nein)

Berichtigung gemäß Regel 139 EPÜ - Hilfsantrag (ja)

Patentansprüche - Klarheit nach Änderung

Patentansprüche - Hauptantrag (nein)

Patentansprüche - Hilfsantrag (ja)

Neuheit - Hilfsantrag (ja)

Erfinderische Tätigkeit - Hilfsantrag (ja)

Anpassung der Beschreibung - EPÜ konform (ja)

Exergue
-
Décisions citées
G 0009/91
T 0892/94
Décisions dans lesquelles la présente décision est citée
-

Sachverhalt und Anträge

I. Die Beschwerde richtet sich gegen die Zwischenentschei­dung der Einspruchsabteilung mit der die Aufrechter­haltung des europäischen Patents Nr.1 467 871 in geänderter Fassung in Aussicht gestellt wurde.

II. Der Einspruch stützte sich auf die in Artikel 100(a) EPÜ 1973 genannten Einspruchsgründe der fehlenden Neuheit (Artikel 54 EPÜ 1973) und der mangelnden erfinderischen Tätigkeit (Artikel 56 EPÜ 1973).

III. Am 22. November 2013 fand eine mündliche Verhandlung vor der Beschwerdekammer statt.

IV. Die Beschwerdeführerin (Einsprechende) beantragte, die angefochtene Entscheidung aufzuheben, das europäische Patent Nr. 1 467 871 zu widerrufen und die Beschwerdegebühr zurückzuzahlen.

V. Die Beschwerdegegnerin (Patentinhaberin) beantragte, die angefochtenen Entscheidung aufzuheben und das Patent aufrechtzuerhalten auf der Grundlage folgender Anträge: Hauptantrag oder Hilfsantrag IV, eingereicht mit dem am 11. September 2013 eingegangenen Schriftsatz, oder gemäß dem mit dem Schriftsatz vom 29. Oktober 2013 eingereichten Hilfsantrag IIa oder gemäß den in der mündlichen Verhandlung vorgelegten Hilfsanträgen I, IIIa oder V, und sämtlichen Anträgen mit den der angefochtenen Entscheidung zugrunde liegenden Beschreibungsseiten 3 und 4.

VI. Im Beschwerdeverfahren wurde unter anderem auf folgende Druckschriften Bezug genommen:

D2: WO-A-00/20217

D6: WO-A-90/02658

D7: WO-A-97/48555

D10: WO-A-00/13916

D21: WO-A-02/20279

VII. Die unabhängigen Ansprüche 1 bis 4, 9, 10, 14 und 15 gemäß Hauptantrag lauten wie folgt:

"1. Stahltiefdruckplatte (8) umfassend eine Druck­plat­tenoberfläche (9) mit mindestens einem ersten Bereich mit Stahltiefdruckstrukturen (10) für die Erzeugung eines Stahltiefdruckbilds mittels Druckfarbe und mindes­tens einem vom ersten Bereich separaten zweiten Bereich mit Prägestrukturen (11) für die Erzeugung einer Blindprägung oder einer beugungsoptischen Reliefstruktur, wobei die Prägestrukturen (11) des Blindprägungs- bzw. beugungsoptischen Reliefstruktur­bereichs eine Höhe und laterale Strukturgröße von weniger als 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitzen und wobei die der Druckplattenober­fläche (9) am nächsten liegenden Bestandteile der Prägestrukturen (11) mit einem Abstand (d) von 40 mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenoberfläche (9) liegen."

"2. Zwischenform (Z) zur Herstellung von Stahltief­druck­platten (8) nach Anspruch 1 umfassend mindestens ein erstes Segment (M) mit Negativ-Stahltiefdruck­struk­turen (10') und mindestens ein vom ersten Segment (M) verschiedenes zweites Segment (DD) mit Negativ-Prägestrukturen (11'), die eine Höhe und laterale Strukturgröße von <= 100 mym besitzen, wobei die Zwischenform (Z) eine Abformebene (9') aufweist und wobei die der Abformebene (9') am nächsten liegenden Bestandteile der Negativ-Prägestrukturen (11') 40 mym bis 100 mym über der Abformebene (9') liegen."

"3. Zwischenform (Z) zur Herstellung von Stahltief­druck­platten (8) nach Anspruch 1 umfassend mindestens ein Segment (M) mit Negativ-Stahltiefdruckstrukturen (10') in einem ersten Bereich und Negativ-Prägestruk­turen (11'), die eine Höhe und laterale Strukturgröße von <= 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitzen, in einem vom ersten Bereich separaten zweiten Bereich, wobei die Zwischenform (Z) eine Abformebene (9') aufweist und wobei die der Abformebene (9') am nächsten liegenden Bestandteile der Negativ-Prägestrukturen (11') 40 mym bis 100 mym über der Abformebene (9') liegen."

"4. Originaldruckplatte zur Herstellung einer Zwischen­form nach Anspruch 3 mit Stahltiefdruckstrukturen (10) und mindestens einer Aussparung (13), in welche ein Prägestempel (D) mit Prägestrukturen (11), die eine Höhe und laterale Strukturgröße von <= 100 mym besitzen, so eingesetzt ist, dass die der Oberfläche der Originaldruckplatte O am nächsten liegenden Bestandteile der Prägestrukturen (11) 40 mym bis 100 mym unter dieser Oberfläche liegen."

"9. Verfahren zur Herstellung eines Gegenstands nach einem der Ansprüche 1, 2 oder 5 bis 8, umfassend die folgenden Schritte:

- Erzeugen einer Stahltiefdruckstruktur (10) in einer Originaldruckplatte (O) und Herstellen mindestens einer Mater (M) von der Original­druckplatte (O),

- Erzeugen eines Prägestempels (D) mit Prägestruk­turen (11), wobei die Prägestruk­turen (11) eine Höhe und laterale Strukturgröße von <= 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitzen, und Herstellen mindestens eines Prägestempelduplikats (DD),

- Herstellen einer Zwischenform (Z) mit einer Abformebene (9') durch nebeneinander Anordnen und Verbinden einer oder mehrerer Mater (M, M1, M2, …) und eines oder mehrerer Prägestempelduplikate (DD, DD1, DD2, …), so dass die der Abformebene am nächsten liegenden Bestandteile der Prägestrukturen 40 mym bis 100 mym über der Abformebene (9') liegen."

"10. Verfahren zur Herstellung eines Gegenstands nach einem der Ansprüche 1 oder 3 bis 8, umfassend die folgenden Schritte:

- Erzeugen von Stahltiefdruckstrukturen (10) in einer Originaldruckplatte (O),

- Erzeugen mindestens einer Aussparung in der die Stahltiefdruckstrukturen (10) aufweisenden Oberfläche der Originaldruckplatte (O),

- Erzeugen eines Prägestempels (D) mit Prägestruk­turen (11), wobei die Prägestruk­turen (11) eine Höhe und laterale Strukturgröße von <= 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitzen,

- Einfügen des Prägestempels (D) in die Aussparung (13) derart, dass die der Oberfläche der Original­druckplatte (O) am nächsten liegenden Bestandteile der Prägestrukturen (11) 40 mym bis 100 mym unterhalb dieser Oberfläche liegen."

"14. Verfahren zur Herstellung einer Stahltiefdruck­platte (8) nach einem der Ansprüche 1 oder 5 bis 8, umfassend die folgenden Schritte:

- Erzeugen von Stahltiefdruckstrukturen (10), in einer Stahltiefdruckplatte (8) für die Erzeugung eines Stahltiefdruckbilds mittels Druckfarbe in einem ersten Bereich,

- Erzeugen von Prägestrukturen (11) in der Stahl­tiefdruckplatte (8) für die Erzeugung einer Blindprägung oder einer beugungsoptischen Reliefstruktur, wobei die Prägestruk­turen (11) eine Höhe und laterale Strukturgröße von <= 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitzen, durch Gravur eines vom ersten Bereich separaten zweiten Bereichs derart, dass die der Oberfläche der Stahltiefdruckplatte (8) am nächsten liegenden Bestandteile der Prägestrukturen (11) 40 bis 100 mym unterhalb dieser Oberfläche liegen."

"15. Verfahren zur Herstellung eines Sicherheits­dokuments im Stahltiefdruckverfahren unter Verwendung einer Stahltiefdruckplatte nach einem der Ansprüche 1 und 5 bis 8, umfassend die Schritte:

- Füllen der Stahltiefdruckstrukturen (10) der Stahltiefdruckplatte (8) mit Druckfarbe, ohne die Prägestrukturen (11) mit Druckfarbe zu füllen,

- Bedrucken eines Sicherheitsdokuments mittels der partiell mit Druckfarbe gefüllten Stahltiefdruck­platte (8) und Prägen der Prägestrukturen in einem Druckvorgang unter Anwendung eines Drucks, der ausreicht, einerseits die Druckfarbe aus den Stahltiefdruckstrukturen (10) auf das Sicherheits­dokument zu übertragen und andererseits das Si­cherheitsdokument im Bereich der Prägestrukturen (11) zu prägen."

VIII. Ansprüche 1 bis 4, 9, 10, 14 und 15 gemäß Hilfsantrag I

Ansprüche 1 und 15 gemäß Hilfsantrag I wurden gegenüber den Ansprüchen 1 und 15 gemäß Hauptantrag nicht verändert.

Ansprüche 2 und 4 gemäß Hilfsantrag I unterscheiden sich jeweils von den Ansprüchen 2 und 4 gemäß Hauptantrag dadurch, dass der Ausdruck

"eine Höhe und laterale Strukturgröße von <= 100 mym"

durch den Ausdruck

"eine Höhe und laterale Strukturgröße von weniger als 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym"

ersetzt ist.

Die Ansprüche 3, 9, 10 und 14 gemäß Hilfsantrag I unterscheiden sich jeweils von den Ansprüchen 3, 9, 10 und 14 gemäß Hauptantrag dadurch, dass der Ausdruck

"eine Höhe und laterale Strukturgröße von <= 1 mym"

durch den Ausdruck

"eine Höhe und laterale Strukturgröße von weniger als 1 mym"

ersetzt ist.

IX. Die Beschwerdeführerin hat im schriftlichen Verfahren und in der mündlichen Verhandlung im Wesentlichen Folgendes vorgetragen:

Das angekündigte Fernbleiben der Patentinhaberin von der mündlichen Verhandlung vor der Einspruchsabteilung habe die Einsprechende dazu verleitet, ebenfalls nicht zu dieser Verhandlung zu kommen. Die Einsprechende sei somit durch den circa zwei Wochen vor der Verhandlung gefaxten letzten Antrag der Patentinhaberin überrascht worden. Durch die Berücksichtigung dieses Antrags habe die Einspruchsabteilung das rechtliche Gehör der Einsprechenden verletzt, weil es für die Einsprechende keine Gelegenheit mehr gegeben habe, sich zu diesem Antrag zu äußern. Es bestehe somit ein Verfahrens­mangel, der das Prinzip der Fairness gegenüber der Einsprechenden verletze. Die Beschwerdegebühr sei somit zurückzu­zahlen.

Das Streichen des Wortes "zweites" im Anspruch 2 entspreche keinem Einspruchsgrund und stelle somit einen Verstoß gegen Regel 80 EPÜ dar.

Die im Einspruchsverfahren vorgenommenen Einschrän­kungen auf Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Strukturgröße von weniger als 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym sei nicht in allen entsprechenden Ansprüchen eingeführt worden. Somit entstehe ein Klarheitsmangel, weil z.B. die Zwischen­form gemäß Anspruch 2 zwar "zur Herstellung von Stahl­tief­druck­platten 8 nach Anspruch 1" geeignet sein müsse, aber auch Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Strukturgröße von weniger als 100 mym umfasse, also auch Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Struktur­größe im Bereich zwischen 1 mym und 5 mym, welcher im Anspruch 1 ausgeschlossen sei. Die Beschreibung des Streitpatent offenbare nicht, wie eine Zwischenform, welche nur Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Strukturgröße im Bereich zwischen 1 mym und 5 mym aufweise, zur Herstellung einer Stahltief­druck­platte nach Anspruch 1 geeignet sein könne. Dieser Einwand treffe auch auf Anspruch 4 in Bezug auf Anspruch 3 zu.

In ähnlicher Weise umfasse Anspruch 3 Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Strukturgröße von genau 1 mym, welche im Anspruch 1 ausgeschlossen seien. Dieser Einwand treffe auch auf Ansprüche 9, 10 und 14 in Bezug auf Anspruch 1 zu.

Ansprüche 2 bis 4, 9, 10 und 14 seien somit unklar.

Der erst in der mündlichen Verhandlung vor der Beschwerde­kammer verspätet eingebrachte Hilfsantrag I sei nicht ins Verfahren zuzulassen, weil Klarheits­mängel bereits in der Beschwerdebegründung gerügt worden seien und die Beschwerdegegnerin somit schon darauf hätte reagieren können.

Gemäß Artikel 101(3) EPÜ müssten alle Ansprüche gemäß Hilfsantrag I allen Erfordernissen des EPÜ genügen, so dass auch die Klarheit (Artikel 84 EPÜ) der Ansprüche 9, 10, 14 und 15 zu prüfen sei, insbesondere was die in diesen Ansprüchen enthaltenen Rückbezüge angehe.

Das in Figur 1 der Druckschrift D21 gezeigte Rauhig­keitsgrundmuster 7 sei als Prägestruktur eines Blind­prägungs- bzw. beugungs­optischen Reliefstruktur­bereichs zu verstehen. Dieses Rauhigkeitsgrundmuster sei etwa 100 mym lang und breit und im Bereich von 60 mym bis 100 mym gegenüber der Druckplattenoberfläche abgesenkt (Seite 5, Zeilen 25 bis 26; Seite 6, Zeilen 19 bis 20). Dabei gehe aus diesen Abmessungen und insbesondere aus Figur 1 für den Fachmann hervor, dass das Rauhigkeitsgrundmuster wohl eine Höhe und laterale Strukturgröße 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitze. Der Gegenstand gemäß Anspruch 1 sei somit gegenüber der Druckschrift D21 nicht neu.

Die Druckschrift D6 beschreibe den nächstliegenden Stand der Technik, von dem sich der Gegenstand des Anspruchs 1 dadurch unterscheide,

(I) dass die Prägestrukturen des Blindprägungs- bzw. beugungsoptischen Reliefstruktur­bereichs eine Höhe und laterale Strukturgröße von weniger als 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitzen, und

(II) dass die der Druckplattenober­fläche am nächsten liegenden Bestandteile der Prägestrukturen mit einem Abstand von 40 mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenoberfläche liegen.

Die Merkmale I und II beträfen separate Probleme. Deshalb gebe es keine Synergie zwischen ihnen.

So lege Merkmal I nur Größenangaben für die Präge­struk­turen fest. Diese Größenangaben lägen lediglich im Rahmen des für derartige Strukturen Üblichen. So belege z.B. die Druckschrift D7, dass bei Prägeplatten die Solltiefen zwischen 10 und 150 mym lägen (Seite 13, Zeilen 11 bis 14), und die Druckschrift D10, dass beugungsoptischen Strukturen kleiner als 1 mym seien (Seite 10, Zeilen 1 bis 5). Die Größenangaben vom Merkmal I leisteten somit keinen Beitrag zur erfinderischen Tätigkeit.

Mit dem Merkmal II soll verhindert werden, dass feine Prägestrukturen durch die Einwirkung eines über die Druckplatte wischenden Wischzylinders beschädigt würden.

Aus der Druckschrift D2 erfahre der Fachmann, dass der vom Wischzylinder verursachte Verschleiß und die Abnutzung an den feinen gravierten Strukturen der Tiefdruckplatte mittels einer Absenkung dieser Strukturen um mindestens 2 mym bis 5 mym beseitigt werden (Seite 5, Zeilen 13 bis 18; Seite 8, Zeilen 24 bis 27; Seite 13, Zeilen 4 bis 9). Somit sei ein Absenken der Prägestrukturen um 40mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenoberfläche für den Fachmann naheliegend, insbesondere weil es sich bei dem Bereich 40mym bis 100 mym nur um eine willkürliche Auswahl handele. Der Gegenstand des Anspruchs 1 gemäß Hilfs­antrag I beruhe somit nicht auf einer erfinderischen Tätigkeit.

Auf die Frage des Vorsitzenden in der mündlichen Verhandlung nach zusätzlichen Argumenten zur erfinderischen Tätigkeit wurde seitens der Beschwerdeführerin ergänzend auf ihre Eingabe vom 25. April 2008, Seiten 29 bis 31, Punkt 4.2.3.1 bezüglich der Kombination der Lehren der Druck­schriften D6 und D2 vor der Einspruchsabteilung verwiesen.

Im Einspruchsverfahren wurde in den Beschreibungs­ab­sätzen [0013] und [0029] der Bereich von 20 bis 100 mym auf 40 bis 100 mym geändert. Somit sei der Bereich von 20 bis 40 mym nicht mehr eindeutig von der Erfindung ausgeschlossen. Dies bewirke unter Umständen eine Erweiterung des Schutzbereichs gemäß Artikel 69(1) EPÜ bei Verletzungsfällen in nationalen Verfahren, die Äquivalenzen zulassen. Diese Änderungen in der Beschreibung entsprächen somit nicht den Anforderungen des Artikels 123 EPÜ und wirkten der Rechtssicherheit entgegen.

X. Die Beschwerdegegnerin hat im schriftlichen Verfahren und in der mündlichen Verhandlung im Wesentlichen Folgendes vorgetragen:

Die Patentinhaberin habe nicht auf ihr Recht, gehört zu werden, verzichtet, nur weil sie ihre Teilnahme an der mündlichen Verhandlung vor der Einspruchsabteilung für entbehrlich gehalten habe. Es handele sich bei dem Antrag der Patentinhaberin um angepasste Seiten der Beschreibung, die geringfügige Änderungen aufwiesen. Die Einspre­chende sei per Fax direkt von der Patentinhaberin informiert worden, habe freiwillig nicht an der Verhandlung teilgenommen, aber hätte sich schriftlich, z.B. per Fax, äußern können. Sie habe somit Gelegenheit gehabt, sich zu diesem letzten Antrag vor der Einspruchsabteilung zu äußern, habe diese lediglich nicht genutzt. Ein Verfahrensfehler liege somit nicht vor.

Das Streichen des Wortes "zweites" im Anspruch 2 sei eine rein sprachliche Korrektur gemäß Regel 139 EPÜ.

Die unabhängigen Ansprüche stünden selbständig neben­einander und nicht in Beziehung zueinander. Jeder Anspruch sei nur für sich auf Klarheit zu prüfen. Die unabhängigen Ansprüche seien jeder für sich klar. Unterschiede zwischen Anspruchsformulierungen stelle keinen Klarheitsmangel dar.

Hilfsantrag I sei ins Verfahren zuzulassen, weil die Klarheitsmängel bezüglich der Ansprüche 3, 9, 10 und 14 erstmalig in der mündlichen Verhandlung vor der Beschwerdekammer aufgeworfen worden seien und die Beschwerdegegnerin somit nicht schon früher darauf hätte reagieren können.

Die in den Ansprüche 9, 10, 14 und 15 enthaltenen Rückbezüge seien in dieser Form erteilt worden. Ihre Klarheit könne somit nicht mehr Gegenstand des Verfahrens sein (Artikel 100 EPÜ).

Die Druckschrift D21 offenbare nicht direkt und ummittelbar, dass das in Figur 1 der Druckschrift D21 gezeigte Rauhigkeitsgrundmuster 7 eine Höhe und laterale Strukturgröße 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitze. Im Gegenteil, übliche Gravurtiefen fingen bei 5 mym an (siehe z.B. Anspruch 12 in der Druckschrift D2), so dass eine Höhe und laterale Strukturgröße des Rauhigkeitsgrundmusters unterhalb 5 mym, also im Bereicht 1 mym bis 5 mym zu erwarten sei. Der Gegenstand gemäß Anspruch 1 sei somit gegenüber der Druckschrift D21 neu.

Bei den in der Druckschrift D6 angestrebten latenten Darstellungen gäbe es genügend Auflagefläche für den Wischzylinder, so dass es nicht zu Beschädigungen der feinen Prägestrukturen kommen könne.

Die Druckschrift D2 beschäftige sich nicht mit Blind­prägungen, so dass der Fachmann eine Lehre bezüglich Trennstege, die ein Auswischen der Druckfarbe verhindern sollen, nicht auf Blindprägungen übertragen würde.

Das Merkmal, dass Prägestrukturen mit einem Abstand von 40 mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenoberfläche liegen, sei keine willkürlich Auswahl, sondern ein Kompromiss zwischen dem vermeiden von Beschädigungen durch den Wischzylinder und dem Ermöglichen der einwandfreien Prägung (Streitpatent Ansatz [0013]), weil jede Absenkung der Prägestrukturen unterhalb der Druckplattenoberfläche auch die zur Verfügung stehende Prägetiefe reduziere.

Es sei somit nicht naheliegend für den Fachmann, die Lehren der Druckschriften D6 und D2 mit einander zu kombinieren. Der Gegenstand des Anspruchs 1 gemäß Hilfsantrag I beruhe auf einer erfinderischen Tätigkeit.

Die Anpassung der Beschreibungs­ab­sätze [0013] und [0029] an die geänderten Ansprüche erfülle die Anforderungen des Artikels 123(2) EPÜ.

Entscheidungsgründe

1. Vermeintlicher Verfahrensmangel

Nach Aktenlage sind die wesentlichen Ereignisse wie folgt:

29. April 2010: Die Patentinhaberin zieht ihren Antrag auf mündliche Verhandlung zurück, kündigt an, dass sie nicht an der Verhandlung teilnehmen wird, und reicht einen neuen Satz Ansprüche und eine angepasste Seite 3 der Beschreibung ein. Im vorliegenden Fall hat die Patentinhaberin nicht erklärt, dass sie sich "nicht weiter am Verfahren beteiligen wird", im Gegensatz zu dem Fall, der der von der Beschwerdeführenden angeführten Entscheidung T 892/94 (Amtblatt EPA 1/2000) zugrunde lag (siehe dort Punkt 2.2). Die Logik der Entscheidung T 892/94 kann daher nicht auf die vorliegend Beschwerde angewandt werden.

9. Juni 2010: Die Einsprechende kündigt an, dass sie nicht an der Verhandlung teilnehmen wird, und reicht weitere Argumente ein, in denen unter anderem die Anpassung der Beschreibung bemängelt wird.

15. Juni 2010: Die Patentinhaberin reagiert auf die Einwände der Einsprechenden insbesondere bezüglich der Anpassung der Beschreibung und reicht erneut geänderte Beschreibungs­seiten 3 und 4 ein, welche auch der Einsprechenden direkt zugefaxt wurden (Fax vom 15. Juni 2010, Seite 4, letzten zwei Zeilen; Schreiben der Patentinhaberin datiert vom 4. Mai 2011, Seite 2, dritter Absatz, vorletzter Satz). Der Empfang dieses Faxes wurde auch von der Beschwerdeführerin bestätigt.

2. Juli 2010: Die mündliche Verhandlung vor der Einspruchsabteilung findet in Abwesenheit der Parteien statt. Die Einspruchsabteilung stellt in ihrer Entscheidung in Aussicht, dass das Streitpatent in geändertem Umfang unter anderem auf der Basis der erst am 15. Juni 2010 einge­reichten geänderten Seiten 3 und 4 der Beschreibung aufrechterhalten werden soll.

Die Beschwerdeführerin sieht ihr rechtliches Gehör darin verletzt, dass die Einspruchsabteilung auf der Grundlage der erst am 15. Juni 2010 einge­reichten geänderten Beschreibungsseiten 3 und 4 in ihrer Entscheidung die Aufrechterhaltung des Patents in Aussicht stellt.

Jedoch muss nach Auffassung der Kammer eine Einspre­chende grundsätzlich damit rechnen, dass eine Patent­inhaberin auf vorgebrachte Mängel reagiert. Das trifft auch auf die Mängel zu, die im Schreiben vom 9. Juni 2010 von der Einsprechenden bezüglich der geänderten Beschreibungs­seiten gerügt wurden.

Wie seitens der Einsprechenden bestätigt, wurden ihr die geänderten Beschreibungsseiten 3 und 4 von der Patentinhaberin bereits am 15. Juni 2010, also vor der münd­lichen Verhandlung am 2. Juli 2010, zugefaxt. Für eine Änderung, die nur aus zwei geänderten Beschrei­bungsseiten besteht und somit als geringfügig anzusehen ist, war also ausreichend Zeit, um darauf zu reagieren, und sei es nur gegebenenfalls mit einem Antrag für mehr Bedenkzeit.

Zudem hätte die Einspre­chende, sofern sie an der mündlichen Verhandlung doch teilgenommen hätte, während der mündlichen Verhandlung auch zu diesen geänderten Beschreibungs­seiten Stellung nehmen können. Durch ihr freiwilliges Fernbleiben von der mündlichen Verhandlung hat sie diese Gelegenheit nicht genutzt.

Somit hatte die Einsprechende jedenfalls die Gelegen­heit, sich zu den geänderten Beschrei­bungs­seiten zu äußern, beispielsweise mittels Fax oder durch eine Teilnahme an der mündlichen Verhandlung.

Eine Verletzung des rechtlichen Gehörs liegt somit nicht vor (Artikel 113(1) EPÜ 1973).

Auch einen Verstoß gegen das Prinzip der Gleichbehand­lung kann die Kammer ebenso wenig feststellen, wie eine vermeintliche fehlerhafte Ausübung des Ermessens der Einspruchsabteilung.

Ein wesentlicher Verfahrensfehler liegt somit nicht vor. Dementsprechend ist eine Rückerstattung der Beschwerdegebühr nicht gerecht­fertigt (Regel 67 EPÜ 1973).

2. Hauptantrag

2.1 Gegen die Zulassung des Hauptantrags zum Verfahren wurde in der mündlichen Verhandlung keine Einwände vorgebracht.

2.2 Anspruch 2 - Regel 139 EPÜ

Anspruch 2 gemäß Hauptantrag unterscheidet sich vom erteilten Anspruch 2 unter anderem dadurch, dass der Ausdruck

"und mindestens ein zweites, vom ersten Segment (M) verschiedenes zweites Segment (DD) mit Negativ-Prägestrukturen (11')"

durch den Ausdruck

"und mindestens ein vom ersten Segment (M) verschiedenes zweites Segment (DD) mit Negativ-Prägestrukturen (11')"

ersetzt ist.

Wie von der Beschwerdeführerin selbst bemerkt (Eingabe vom 22. Oktober 2013, Punkt II.1), entspricht die Wiederholung des Wortes "zweites" im Anspruch 2 nicht den Regeln der deutschen Sprache. Dieser Fehler ist so offensichtlich, dass sofort erkennbar ist, dass nichts anderes beabsichtigt sein konnte als das, was als Berichtigung vorgeschlagen wird. So bleibt in diesem Fall der Gegenstand des Anspruchs 2 durch diese rein sprachliche Berichtigung gänzlich unverändert.

Regel 80 EPÜ gestattet Änderungen, die durch einen Einspruchsgrund gemäß Artikel 100 EPÜ veranlasst sind. Anderweitige Änderungen sind unter Regel 139 EPÜ dadurch aber nicht ausgeschlossen.

Die Streichung des überflüssigen Wortes "zweites" im Anspruch 2 gemäß Hauptantrag erfüllt die Bedingungen für eine Berichtigung nach Regel 139 EPÜ und ist somit zulässig.

2.3 Klarheit (Artikel 84 EPÜ 1973)

2.3.1 Im Einspruchsverfahren wurde eine Einschränkung auf Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Strukturgröße von weniger als 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym insbesondere im Anspruch 1 vorgenommen.

Anspruch 2 ist ein unabhängiger Anspruch (für eine Zwischenform), der folgenden Rückbezug zur Stahl­tiefdruck­platte nach Anspruch 1 beinhaltet: "zur Herstellung von Stahltief­druck­platten (8) nach Anspruch 1". Die im Anspruch 1 vorgenommene Änderung hat also auch Auswirkungen auf den Gegenstand nach Anspruch 2, insofern dieser weiterhin "zur Herstellung von Stahltief­druck­platten (8) nach Anspruch 1"

geeignet sein muss. Anspruch 2 kann somit nicht wie von der Beschwerdegegnerin vorgetragen nur für sich alleine betrachtet werden.

Eventuelle Klarheitsmängel des Anspruchs 2, die eine direkte Konsequenz der im Anspruch 1 eingebrachten Änderungen sind, müssen somit von der Kammer im Beschwerdeverfahren beurteilt werden.

Die Zwischenform gemäß Anspruch 2 umfasst selbst explizit auch Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Strukturgröße von weniger als 100 mym. Letzteres Merkmal ist auch von Zwischenformen, die nur Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Strukturgröße im Bereich von 1 bis 5 mym enthalten, erfüllt. Solche Zwischenformen eignen sich aber nicht offensichtlich zur Herstellung von Stahltief­druck­platten mit Prägestrukturen mit einer Höhe und lateralen Strukturgröße von weniger als 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym (Anspruch 1), weil dort der Bereich von 1 bis 5 mym explizit ausgeschlossen ist. Die Beschreibung des Streitpatents enthält diesbezüglich keine Hinweise. Somit ist mit Anspruch 2 unklar, ob nun Zwischenformen, die nur Prägestruk­turen mit einer Höhe und lateralen Struktur­größe im Bereich von 1 bis 5 mym enthalten, Gegenstand des Anspruchs 2 sind oder nicht (Artikel 84 EPÜ 1973).

2.3.2 Ein entsprechendes Argument trifft auch auf Anspruch 4 in Rückbezug auf Anspruch 3 zu und in Bezug auf den Wert von genau 1 mym auch auf Ansprüche 3, 9, 10 und 14 im Rückbezug auf Anspruch 1, so dass Ansprüche 3, 4, 9, 10 und 14 ebenfalls unklar sind (Artikel 84 EPÜ 1973).

3. Hilfsantrag I

3.1 Die Klarheitsmängel bezüglich der Ansprüche 3, 9, 10 und 14 in Bezug auf den Wert von genau 1 mym wurden erstmalig von der Beschwerdeführerin in der mündlichen Verhandlung vor der Beschwerde­kammer vorgebracht. Die Beschwerdegegnerin hatte somit keine Gelegenheit, bereits früher darauf reagieren zu können. Somit ist es nur fair, der Beschwerdegegnerin eine entsprechende Gelegenheit dazu zu geben. Zudem bestehen die im Hilfsantrag I eingebrachten Änderungen lediglich darin, die Bereichsgrenzen in den beanstandeten unabhängigen Ansprüchen mit denen des Anspruchs 1 gleich zu stellen und sind daher ohne großen Aufwand überschaubar.

Hilfsantrag I wurde deshalb zum Verfahren zugelassen.

3.2 Klarheit

Die in den Ansprüche 9, 10, 14 und 15 enthaltenen Rückbezüge auf einen "Gegenstand" nach vorhergehenden Ansprüchen sind bereits in dieser Form erteilt worden. Die in den Ansprüchen gemäß Hilfsantrag I vorgenommenen Änderungen betreffen nicht diese Rückbezüge an sich, so dass eine erneute Prüfung ihrer Klarheit nicht Gegenstand des Einspruchsbeschwerdeverfahrens sein kann, weil Artikel 84 EPÜ kein Einspruchsgrund nach Artikel 100 EPÜ ist. Die Prüfung eines Einspruchs beschränkt sich auf den Umfang, in dem in der Einspruchsschrift gegen das Patent Einspruch eingelegt wurde (G 9/91, ABl. 1993, 408).

Ansonsten wurde die Klarheit der Änderungen im Hilfsantrag I nicht in Frage gestellt.

3.3 Neuheit

Das in Figur 1 der dem Stand der Technik gemäß Artikel 54(3) EPÜ offenbarenden Druckschrift D21 dargestellte Rauhigkeitsgrundmuster 7 ist etwa 100 mym lang und breit und im Bereich von 60 mym bis 100 mym gegenüber der Druckplattenoberfläche abgesenkt (Seite 5, Zeilen 25 bis 26; Seite 6, Zeilen 19 bis 20). Aus dieser Druckschrift und insbesondere aus der schema­tischen und somit nicht unbedingt maßstabs­getreuen Darstellung der Figur 1 ist für den Fachmann nicht direkt und ummittelbar offenbart, dass das Rauhigkeits­grund­muster 7, wenn es als ein Bereich mit Prägestrukturen für die Erzeugung einer Blindprägung oder einer beugungsoptischen Relief­struktur verstanden wird, eine Höhe und laterale Strukturgröße von 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitzt.

Der Gegenstand des Anspruchs 1 gemäß Hilfsantrag I ist somit gegenüber der Druckschrift D21 neu (Artikel 54(3) EPÜ).

3.4 Erfinderische Tätigkeit

Die Druckschrift D6 bildet den nächstliegenden Stand der Technik und offenbart eine Tiefdruckplatte, mit der sowohl Tiefdruck als auch eine Blindprägung herge­stellt werden können (Seite 8, Zeilen 9 bis 14).

Von dieser Tiefdruckplatte unterscheidet sich der Gegenstand des Anspruchs 1 des Streitpatents dadurch, dass

(I) die Prägestrukturen des Blindprägungs- bzw. beugungsoptischen Reliefstruktur­bereichs eine Höhe und laterale Strukturgröße 1 mym oder im Bereich von 5 bis 100 mym besitzen und dass

(II) die der Druckplattenober­fläche am nächsten liegenden Bestandteile der Prägestrukturen mit einem Abstand von 40 mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenoberfläche liegen.

Merkmal II bewirkt, dass die gemäß Merkmal I "feinen" Prägestrukturen wegen der Absenkung weniger vom Wischzylinder beschädigt werden, aber immer noch den Prägevorgang ermöglichen (Streitpatent, Spalte 3, Zeilen 19 bis 26). Dass es hierbei, wie von der Beschwerdegegnerin vorgetragen, zu einer Synergie zwischen den Merkmalen I und II kommt, kann die Kammer nicht nachvollziehen, weil Merkmal I lediglich die Größenordnung der Präge­strukturen festlegt, bei denen das Problem zu lösen ist, ohne jedoch zu der Lösung selbst etwas beizutragen.

Aus der Druckschrift D2 erfährt der Fachmann, dass der vom Wischzylinder verursachte Verschleiß und die Abnutzung an den feinen gravierten Strukturen der Tiefdruckplatte - welche als Trenn­stegoberkanten verstanden werden - mittels einer Absenkung dieser Trenn­stegoberkanten, die bei Gravurlinien mit einer Breite von 1 mm bis 10 mm und mehr verwendet werden, um mindestens 2 mym bis 5 mym beseitigt werden (Seite 5, Zeilen 13 bis 18; Seite 8, Zeilen 24 bis 27; Seite 13, Zeilen 4 bis 9).

Selbst wenn der Fachmann diese Lehre bezüglich der feinen gravierten Strukturen der Tiefdruckplatte auf Prägestrukturen überträgt, so kommt er nicht zwangsläufig zu einem Abstand von 40 mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenoberfläche.

Es wurde seitens der Beschwerdeführerin argumentiert, dass es sich bei der in der Druckschrift D2 angegebenen Absenkung von 2 mym bis 5 mym lediglich um Mindestwerte handele und somit dem Fachmann nahegelegt werde, auch größere Werte in Betracht zu ziehen. Der Fachmann würde somit eine ausreichende Absenkung der Prägestruk­turen ermitteln, damit diese Struk­turen vom Wischzylinder nicht mehr beschädigt würden. Hierbei sei ein Abstand von 40 mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenober­fläche nur als eine willkürliche Auswahl anzusehen.

Diesem Argument kann die Kammer nicht folgen, weil dabei nicht berücksichtigt wird, dass es sich beim Gegenstand von Anspruch 1 gemäß Hilfsantrag I um Prägestrukturen für die Erzeugung einer Blindprägung oder einer beugungsoptischen Reliefstruktur handelt: der Abstand der Prägestrukturen unterhalb der Druck­plattenoberfläche ist somit nicht nur in Bezug auf das Reduzieren der vom Wischzylinder ausgehenden Beschä­digungen zu bestimmen. Der Prägevorgang muss auch weiterhin möglich sein, was bedeutet, dass die Präge­strukturen auch nicht zu sehr abgesenkt werden dürfen, weil diese sonst keinen einwandfreien Prägevorgang mehr erlauben. Für diese letztere Überlegung gibt es aber keinen Hinweis in der Druckschrift D2, weil diese sich nur mit der Aufgabe befasst, Maßnahmen vorzusehen, die es erlauben, großflächige Druckbildbereiche, d. h. Linien mit einer Breite von ca. einem Millimeter und mehr im Stichtiefdruck­verfahren vollflächig so zu drucken, dass für den Betrachter ein gleichmäßiger Farbeindruck erzeugt wird (Seite 2, Zeilen 8 bis 11 und 20 bis 24). Gemäß der Druck­schrift D2 wird somit zwangsläufig Druckfarbe ver­wendet, so dass sich die Frage einer ausreichenden Prägung ohne Druckfarbe nicht stellt.

Somit ist der anspruchsgemäße Abstand von 40 mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenoberfläche, welcher gemäß Streitpatent "dennoch einen einwandfreien Präge­vorgang ermöglich[t]" (Streitpatent, Spalte 3, Zeilen 19 bis 26) nicht durch die alleinige Lehre der Druckschrift D2 bezüglich eines weiteren Absenkens, um vom Wischzylinder ausgehenden Beschädi­gungen zu reduzieren, nahegelegt, weil der Fachmann zusätzlich das Ausmaß der Absenkung dahingehend optimieren muss, dass ein einwandfreier Präge­vorgang noch möglich ist.

Auch die weiteren im Verfahren befindlichen Druckschriften enthalten keinen Hinweis darauf, die Prägestrukturen im Abstand von 40 mym bis 100 mym unterhalb der Druckplattenoberfläche anzuordnen.

Deshalb konnte die Beschwerdeführerin die Kammer nicht davon überzeugen, dass der Gegenstand des Anspruchs 1 gemäß Hilfsantrag I durch den vorliegenden Stand der Technik nahe gelegt sei und auf keiner erfinderischen Tätigkeit im Sinne von Artikel 56 EPÜ 1973 beruhe.

Merkmal II befindet sich ebenso in den unabhängigen Ansprüchen 2 bis 4, 9, 10 und 14 gemäß Hilfsantrag I, so dass die vorhergehende Feststellung auch für diese Ansprüche gilt.

Verwendungsanspruch 15 gemäß Hilfsantrag I wird durch die erfinderische Tätigkeit des Anspruchs 1 getragen.

3.5 Anpassung der Beschreibung

Eine eventuelle Auslegungspraxis in einigen nationalen Verletzungsverfahren kann nicht eine Verletzung des Artikels 123(2) EPÜ oder der Rechtssicherheit rechtfertigen, weil sich dieser Artikel lediglich am Offenbarungs­gehalt der ursprüng­lich eingereichten Unterlagen orientiert.

Die Anpassung der Bereichsuntergrenze in den Beschrei­bungs­ab­sätzen [0013] und [0029] an die geänderten Ansprüche ist zur Stützung dieser geänderten Ansprüche notwendig (Artikel 84 EPÜ 1973). Zudem erfüllen die vorgenommenen Änderungen die Anforderungen des Artikels 123(2) EPÜ, weil der Wert von 40 mym bereits als Untergrenze in der ursprünglich eingereichten Anmeldung offenbart ist (Druckschrift WO-A-03/057494, Seite 4, Zeilen 15 bis 19, Seite 10, Zeilen 5 und 6, Anspruch 9). Die vorgenommenen Änderungen in der Beschreibung sind somit nach dem EPÜ nicht zu beanstanden.

Dispositif

Entscheidungsformel

Aus diesen Gründen wird entschieden:

1. Die angefochtene Entscheidung wird aufgehoben.

2. Die Angelegenheit wird an die erste Instanz mit der Anordnung zurückverwiesen, das Patent auf der Grundlage der folgenden Unterlagen aufrechtzuerhalten:

- Patentansprüche 1 bis 18, eingereicht in der mündlichen Verhandlung vom 22. November 2013 als Hilfsantrag I,

- Beschreibungsseiten 2 bis 6, in der der angefochtenen Entscheidung zugrundeliegenden Fassung,

- Zeichnungsfiguren 1 bis 6e der Patentschrift.

3. Der Antrag auf Rückzahlung der Beschwerdegebühr wird zurückgewiesen.

Footer - Service & support
  • Soutien
    • Mises à jour du site Internet
    • Disponibilité de services en ligne
    • FAQ
    • Publications
    • Notifications relatives aux procédures
    • Contact
    • Centre d'abonnement
    • Jours fériés
    • Glossaire
Footer - More links
  • Centre de presse
  • Emploi et carrière
  • Single Access Portal
  • Achats
  • Chambres de recours
Facebook
European Patent Office
EPO Jobs
Instagram
EuropeanPatentOffice
Linkedin
European Patent Office
EPO Jobs
EPO Procurement
X (formerly Twitter)
EPOorg
EPOjobs
Youtube
TheEPO
Footer
  • Adresse bibliographique
  • Conditions d’utilisation
  • Protection des données
  • Accessibilité